
Sasaran Sputtering Titanium 4n untuk Salutan Vakum
Sasaran titanium yang dihasilkan oleh XUBO, dengan ketulenan sehingga 99.995 peratus, proses pengeluaran termasuk lebur, ubah bentuk haba, panjang sehingga 4000mm, lebar sehingga 350mm. bijirin halus, pengedaran seragam, ketulenan tinggi, kurang kemasukan, ketulenan tinggi, filem TiN yang didepositkan digunakan dalam hiasan, acuan industri, semikonduktor dan bidang lain, dengan lekatan yang baik, salutan seragam dan warna-warna terang.
pengenalan produk
Titanium mempunyai nombor atom 22, berat atom 47.867, ialah logam peralihan perak-putih, dicirikan oleh berat ringan, kekuatan tinggi, kilauan logam dan ketahanan terhadap kakisan klorin basah. -jenis titanium ialah sistem kristal heksagon, -jenis titanium ialah sistem kristal kubik. Suhu peralihan ialah 882.5 darjah . Takat lebur (1660±10) darjah , takat didih 3287 darjah , ketumpatan ialah 4.506g/cm3.xubo boleh menyediakan Sasaran Sputtering Titanium 4n tersuai Untuk Salutan Vakum atas permintaan. Kami boleh menyesuaikan sasaran sputtering titanium kami untuk memenuhi keperluan dan lukisan pelanggan tertentu.
proses pengeluaran: lebur, ubah bentuk haba
Sasaran sputtering titanium untuk salutan vakum:
Ketulenan produk kami: 99.5 peratus , 99.7 peratus , 99.8 peratus , 99.9 peratus , 99.95 peratus , 99.99 peratus , 99.995 peratus .
Kami boleh menyediakan bentuk dan saiz: sasaran rata, sasaran silinder, sasaran arka, sasaran berbentuk, dsb.
Saiz: panjang sehingga 4000mm, lebar sehingga 350mm.
kod hs sasaran titanium:81089090
Ciri: bijirin halus,
pengedaran seragam,
kesucian yang tinggi,
kurang kemasukan,
kesucian yang tinggi,
Ketulenan sasaran mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi filem, dan biasanya sasaran adalah struktur polihablur. Untuk sasaran yang sama, kadar sputtering sasaran dengan butiran halus adalah lebih cepat daripada kadar sputtering sasaran dengan butiran kasar; dan taburan ketebalan filem yang didepositkan oleh sputtering sasaran dengan perbezaan kecil dalam saiz butiran (taburan seragam) adalah lebih seragam.
Parameter sasaran sputtering titanium 4n untuk salutan vakum yang dihasilkan oleh kami:
Kekasaran permukaan |
Ra3.2 |
Ketumpatan |
4.51g/sm3 |
toleransi |
±0.2mm |
bentuk |
Bulat, Plat, Putar |
Kerintangan |
54 µOhmcm |
suhu kritikal superkonduktor |
0.4000K |
Pekali Suhu |
0.00380K⁻¹ |
kekuatan tegangan |
230.00 - 460.00 MPa |
ketumpatan |
4.5g/cm³ |
takat lebur |
1660 darjah |
takat didih |
3287 darjah |
haba pendam penyejatan |
8893J g⁻¹ |
Kekonduksian terma |
21.90 W m⁻¹ K⁻¹ |
Spesifikasi Asas:
Sasaran Pusingan
φ60/φ65/φ70/φ80/φ85/φ90/φ95/φ100*20/30/32/35/40/42/45/50(T)
Sasaran Plat
60/80/120(W)*6/8/12(T)*519/525/620(L)
& 60-800(W)*6-40(T)*600-2000(L)
Sasaran Putar:
0.1-30(WT)*3-350(OD)*50-15000mm(L)
Soalan Lazim:
Apakah sasaran sputtering titanium?
Sasaran sputtering titanium adalah sejenis produk titanium yang diperbuat daripada titanium logam, dan ia digunakan dalam salutan sputter untuk menghasilkan filem nipis titanium.
Untuk apa sasaran sputtering digunakan?
Ia digunakan secara meluas dalam elektronik, alat perkakasan, industri maklumat, hiasan rumah, pembuatan kaca auto dan lain-lain bidang berteknologi tinggi. Dalam industri ini, sasaran titanium digunakan terutamanya untuk salutan litar bersepadu, paparan panel permukaan panel rata dan komponen lain, atau sebagai hiasan dan salutan kaca, dsb.
Industri yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk sasaran titanium. Mari kita ambil litar titanium sebagai contoh. Biasanya, kami menggunakan metrik penilaian prestasi berikut untuk menentukan sama ada sasaran sputtering memenuhi keperluan.
|
Sasaran titanium untuk litar tidak bersepadu |
Sasaran titanium untuk litar bersepadu |
kesucian |
99.90 peratus |
99.99 peratus , 99.995 peratus |
Struktur mikro (saiz kristal) |
<100 nm |
<30 nm |
Kaedah kimpalan |
pematerian, badan tunggal monolitik |
badan tunggal, pematerian, kimpalan resapan |
Ketepatan dimensi |
0.1 mm |
0.01 mm |
Proses sputtering titanium:
Penyediaan sasaran titanium tulen secara amnya dilakukan dengan pemprosesan tekan panas jongkong cair. Sasaran aloi titanium disediakan menggunakan metalurgi serbuk.
.
Proses pengeluaran sasaran sputtering:
Memercikkan peralatan pengeluaran sasaran:
Penghantaran&pembungkusan:
Maklum balas pelanggan:



Kenapa pilih kami:
Dengan pembuatan dalaman yang lengkap 4n Titanium Sputtering Target Untuk Salutan Vakum, kepakaran yang luas dalam metalurgi serbuk dan teknologi pemesinan ketepatan CNC, XUBO menjamin bahan berkualiti terbaik untuk industri salutan. Mereka menonjol kerana ketumpatan penuh, ketulenan tinggi dan struktur mikro butiran halus yang seragam.
Cool tags: Sasaran sputtering titanium 4n untuk salutan vakum, Sasaran sputtering titanium 4n China untuk salutan vakum pengeluar, pembekal, kilang
Anda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan